هسته محصول

گرافیت ایزواستاتیک با خلوص بالا{0} از طریق فشار ایزواستاتیک سرد (CIP) برای دستیابی به چگالی یکنواخت سه بعدی تحت فشار فوق العاده بالا (140-200 مگاپاسکال) ساخته می‌شود. ساخته شده از کک نفتی تصفیه شده در دمای بیش از 2500 درجه، چگالی نظری نزدیک به-و ایزوتروپی عالی را نشان می‌دهد و عملکرد پایدار را در کاربردهای مختلف تضمین می‌کند.

پارامترهای فنی

پارامتر	مقدار کلیدی
تراکم	1.80-1.92 g/cm³
محتوای خاکستر	کمتر یا مساوی 100 ppm
نسبت ناهمسانگردی	1.0–1.05
ضریب انبساط حرارتی (CTE)	4.2-5.0 × 10-6/K (RT-400 درجه)
خلوص	C بزرگتر یا مساوی 99.9٪
هدایت حرارتی	110–130 W/(m·K)
قدرت خمشی	55-85 مگاپاسکال

محصولات از سفارشی سازی شخصی پشتیبانی می کنند.

ویژگی های اصلی

خلوص فوق‌العاده-بالا: ناخالصی‌های خاکستر/فلز فوق‌العاده-(Fe، Ca، Na)، ICP-تأیید شده با MS، ناخالصی مناسب-حساس.
چگالی عالی: چگالی ظاهری بالا، تخلخل کم، افزایش هدایت حرارتی و ظرفیت مکانیکی.
ایزوتروپی: تفاوت حداقل در انبساط حرارتی/استحکام خمشی در جهات.
مقاومت در برابر حرارت شدید: پایدار در دمای بالا در اتمسفر بی اثر (پوشش مورد نیاز در محیط های اکسید کننده بالاتر از دمای خاص).
مقاومت در برابر شوک حرارتی: در برابر تغییرات سریع دما بدون ترک خوردن مقاومت می کند.
ماشینکاری دقیق: گرافیت با پرس ایزواستاتیک با خلوص{{0}بالا دارای تلورانس های بسیار نزدیک است و می تواند در قطعات پیچیده (دیسک های توربین، بوته ها) پردازش شود.

برنامه های کاربردی کلیدی

نیمه هادی: اجزای حرارتی کوره سیلیکونی تک بلوری/ حامل های ویفر (مقاومت در دمای بالا، ناخالصی های فوق العاده- کم).
فتوولتائیک: بوته/هیترهای شمش پلی سیلیکون (مقاوم در برابر فرسایش مذاب سیلیکون).
انرژی هسته‌ای: بازتابگرهای نوترونی راکتور-گاز با دمای بالا{1}}خنک‌شده (مطابق با مشخصات درجه- هسته‌ای).
هوافضا: درج‌های گلوی نازل موشک/باله‌های موشک (مقاومت در برابر حرارت بسیار بالا-).
متالورژی بالا-: بوته های ذوب آلیاژ تیتانیوم (قابل استفاده مجدد، بدون نشتی).
تجهیزات صنعتی: الکترودهای EDM/قطعات کلیدی کوره-در دمای بالا.

صدور گواهینامه و سفارشی سازی

گرافیت با پرس ایزواستاتیک با خلوص{0} بالا مطابق با استانداردهای SEMI F76 (نیمه هادی)، ISO 8005 (هسته ای)، EN 10298/ASME BPVC (ایمنی) و RoHS 3.0 (محیط زیست) است. خدمات سفارشی عبارتند از: سیلیس کردن (برای افزایش مقاومت در برابر اکسیداسیون)، اشباع ثانویه (برای افزایش چگالی)، و بهینه سازی ساختار فوق العاده ظریف (برای بهبود چقرمگی).